Станок ДИП 500 является одним из наиболее популярных устройств для проведения диффузионной интеграции в полупроводниковой промышленности. Его основными компонентами являются:
- Камера для диффузионной интеграции
- Вакуумный насос для создания вакуума в камере
- Система нагрева для нагрева образцов до высоких температур
- Регулятор температуры для точной настройки температуры
- Компьютерное управление для автоматической настройки параметров интеграции
дип500
Принцип работы станка ДИП 500 заключается в проведении диффузионной интеграции путем нагрева образцов в камере, создания вакуума и ввода в камеру диффузионных газов. Это позволяет производить интеграцию различных элементов на поверхности полупроводниковых материалов, что является важным этапом в производстве микроэлектронных устройств.
